湿法加工中掩模对准晶体方向的确定
在湿法体微机械加工中，蚀刻特性取决于取向。Si{100}和Si{110}晶片上任何几何形状的掩模开口的延长蚀刻导致由最慢蚀刻平面限定的结构。为了制造高尺寸精度的微结构，对准沿着晶体方向的掩模边缘包括这些最慢的蚀刻平面。因此，掩模边缘的精确对准在微/纳米制造中很重要。因此，确定精确的晶体方向至关重要，事实上，这是
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